SK 海力士创新的半导体CMP抛光垫技术实现了可持续利用
文章简介:本站12月27日消息,根据韩媒ETNews报道,SK海力士近日研发出了可重复使用的CMP抛光垫技术,不仅可以降低成本,而且可以增强ESG(环境、社会、治理)管理。SK海力士表示,他们将首先在低风险工艺中部署可重复使用的CMP抛光垫,并逐步扩大其应用范围本站注:CMP技术是使被抛光材料在化学和机械的共同作用下,材料表面达到所要求的平整度的一个工艺过程。抛光液中的化学成分与材料表面进行化学反应,形成易抛光的软化层,抛光垫和抛光液中的研磨颗粒对材料表面进行物理机械抛光将软化层除去。图源:鼎龙股份在CM
2023-12-28评论 0654