ASML初の新型EUVリソグラフィー装置Twinscan NXE:3800E導入完了

露光装置メーカー ASML は、生産効率の向上を実現する初の新型 EUV 露光装置 Twinscan NXE:3800E の導入に成功したと発表しました。 3 月 13 日のニュースによると、ASML はこの重要な進歩を遂げました。

開発中の高 NA EUV リソグラフィ マシンの Twinscan EXE シリーズに加えて、ASML は従来の開口数 EUV リソグラフィ マシンの NXE シリーズも継続的に更新およびアップグレードしています。 NXE:4000F 2025年モデル。

NXE シリーズ モデルの最後の 2 世代である 3400C と 3600D は、それぞれ 7 ～ 5 nm および 5 ～ 3 nm ノードの生産に適しています。したがって、ドイツのメディア ComputerBase は、3800E は切断をサポートすると予想しています。エッジ3~2nmプロセス 。

以前に ASML によって共有された 2021 年バージョンのロードマップによると、Twinscan NXE:3800E システムは、前世代の 3600D と比較してアライメント精度 (オーバーレイ) と生産能力をさらに向上させ、 195 枚のウェーハを達成 サークルの 1 時間あたりのスループットは、3600D の 160 枚と比較して 22% 近く大幅に増加し、目標の 220 枚 (37.5% の増加に相当) に達すると予想されます。

#▲ 2021 年版 ASML リソグラフィー装置ロードマップ。画像ソース ASML、以下同様

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