本站 9 月 3 日消息，据韩媒 The Elec 昨日报道，三星正对 Tokyo Electron (TEL) 的 Acrevia GCB 气体团簇光束（本站注：Gas Cluster Beam）系统进行测试。TEL 的 Acrevia GCB 系统发布于今年 7 月 8 日，可通过气体团簇光束对 EUV 光刻图案进行局部精确整形，从而修复图案缺陷、降低图案粗糙度。
此外 Acrevia 系统还可用于消除在 EUV 光刻错误中占约一半的随机错误，提升产品良率。
TEL 相关人士表示潜在客户确实正在进行 Acrevia 系统测试，该设备预计将首先用于逻辑代工而非存储器领域。
此前三星电子已在 4nm 工艺上对应用材料的 Centura Sculpta 进行了测试，如今又测试 TEL 的设备，旨在加强两大半导体设备供应商间的图案塑形订单竞争。
以上是消息称三星电子测试 TEL 公司 Acrevia GCB 设备以改进 EUV 光刻工艺的详细内容。更多信息请关注PHP中文网其他相关文章！
