SK하이닉스, 2026년 ASML High NA EUV 노광장비 최초 선보일 예정

8월 19일자 이 사이트의 소식. 국내 언론 ZDNet Korea에 따르면 SK하이닉스 EUV 재료 기술자들은 이달 12일 현지 시간으로 열린 기술 회의에 참석해 언론에 ASML의 High NA EUV를 최초로 선보일 계획이라고 밝혔다. 2026년. 리소그래피 기계. SK하이닉스 엔지니어는 최근 High NA EUV R&D팀을 꾸려 최첨단 DRAM 메모리 생산에 High NA EUV 리소그래피 기술을 적용하는 작업을 진행 중이라고 밝혔다.

1. Intel:

   • 이 세계 최초의 상업용 High NA EUV 리소그래피 기계 획득에 앞장섰습니다
   • Two High NA 기계는 이미 오레곤 R&D 공장으로 가고 있습니다

2. TSMC:

   • 첫 번째 High NA EUV 리소그래피 기계는 2024년에 배송될 것으로 예상됩니다

3. 삼성전자:

   • 첫 번째 High NA EUV 노광기는 2024년 4분기부터 2025년 1분기까지 납품 예정입니다

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