Qui a inventé la machine à lithographier ?

La machine de photolithographie a été inventée par le français Nicéphore niépce en 1822. Dans un premier temps, Nicéphore niépce a découvert une sorte d'empreinte qui pouvait être gravée sur du papier huilé lorsqu'elle apparaissait sur la feuille de verre, après un certain temps, lorsqu'elle était exposée au soleil. , les parties transmettant la lumière deviendront très dures, mais les parties opaques peuvent être lavées avec de la colophane et de l'huile végétale.

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La machine de lithographie (lithographie), également connue sous le nom de : machine d'exposition pour l'alignement des masques, système d'exposition, système de lithographie, etc., est l'équipement de base pour la fabrication de puces. Il utilise une technologie similaire à l’impression photo pour imprimer les motifs fins du masque sur la plaquette de silicium par exposition à la lumière.

Qui a inventé la machine à lithographie

En 1822, le français Nicéphore niépce a inventé la machine à lithographie. Dans un premier temps, Nicéphore niépce a découvert une marque qui pouvait être gravée sur du papier huilé après son apparition sur la pièce de verre. Pendant la période d'exposition au soleil, la partie transmettant la lumière deviendra très dure, mais la partie opaque peut être lavée avec de la colophane et de l'huile végétale.

Bien que la machine de photolithographie ait été inventée plus tôt, elle n'a pas été utilisée dans diverses industries après son invention. Ce n'est qu'après la Seconde Guerre mondiale que la technologie a été appliquée aux cartes de circuits imprimés. Les matériaux utilisés dans les premières inventions ont également été utilisés. a été très différent. La production de circuits en cuivre sur des cartes en plastique a rendu les cartes de circuits imprimés populaires en peu de temps, elles sont devenues l'un des matériaux les plus critiques dans de nombreux domaines d'équipement électronique.

Aujourd'hui, les machines de photolithographie sont devenues le principal équipement de production pour la production et la fabrication de semi-conducteurs, et ont également déterminé le symbole de la technologie horizontale sur l'ensemble du marché des semi-conducteurs.

Quelles technologies sont nécessaires pour fabriquer des machines de lithographie ?

Le système de fabrication des machines de lithographie est très complexe, et deux points sont cruciaux, à savoir les pièces de précision et la technologie d'assemblage.

1. Pièces de précision

La fabrication d'une machine de photolithographie nécessite des dizaines de milliers de pièces de précision. D'une manière générale, la fabrication d'une machine de lithographie nécessite environ 80 000 pièces de précision, et la machine de lithographie ultraviolette extrême la plus avancée au monde nécessite actuellement plus de 100 000 pièces de fabrication.

Un ensemble complet de machines de photolithographie comprend plusieurs systèmes de composants, notamment des systèmes d'exposition, des systèmes d'alignement automatique, des systèmes logiciels de machine complets, etc. Parmi eux, le système d'exposition comprend le système d'éclairage et l'objectif de projection.

Parmi toutes les pièces de précision de base qui composent la technologie optique, les lentilles optiques, les sources de lumière optique et les établis doubles peuvent être considérés comme le cœur du noyau.

Une lentille optique avec une ouverture numérique élevée détermine les capacités de résolution et d'erreur de seuil de la machine de lithographie. Les capacités de résolution et d’erreur de repérage sont d’une importance vitale pour une machine de lithographie. La seule lentille qui peut être utilisée par la machine de lithographie ultraviolette extrême EUV la plus avancée au monde est la lentille produite par Zeiss.

La longueur d'onde de la source lumineuse contenue dans la source de lumière optique de la machine de lithographie est un élément important pour déterminer les capacités industrielles de la machine de lithographie. Une attention particulière doit être accordée au fait que la source de lumière requise par la machine de lithographie doit présenter les caractéristiques de petite taille, de puissance élevée et de stabilité.

Par exemple, la source de lumière utilisée par la machine de lithographie EUV a une longueur d'onde de seulement 13,5 nanomètres et le système optique utilisé est extrêmement complexe.

Le système d'établi requis dans la machine de lithographie peut affecter la précision et la productivité de la machine de lithographie pendant le fonctionnement, et la difficulté technique globale impliquée est très élevée. Étant donné que ce type d'établi transporte des tranches de silicium, il peut effectuer une série de systèmes de mouvement ultra-précis pendant le fonctionnement de la machine de lithographie, notamment le chargement et le déchargement des tranches, l'alignement, la mesure de la surface du champ, l'exposition, etc.

2. Technologie d'assemblage

Une machine de photolithographie nécessite non seulement des pièces de précision, mais la technologie d'assemblage de ces pièces est également cruciale.

Lorsque toutes les pièces sont prêtes, le processus d'assemblage ultérieur affectera directement les performances de fonctionnement d'une machine de photolithographie. De nos jours, le processus de production de la société néerlandaise ASML (traduction chinoise : ASML), principal fabricant de machines de lithographie, s'apparente essentiellement davantage à une entreprise d'assemblage de pièces, car près de 90 % des composants nécessaires à ASML pour produire des machines de lithographie proviennent de partout dans le monde, elle compte plus de cinq mille fournisseurs dans le monde.

En d'autres termes, une raison importante pour laquelle ASML a pu vaincre d'autres concurrents en matière de production de machines de photolithographie tels que Nikon et Canon en termes de technologie de fabrication de machines de photolithographie, et ainsi occuper une position de leader sur le marché mondial de la fabrication et de la vente de machines de photolithographie, est qu'il s'agit d'une technologie d'assemblage puissante.

Une entreprise solide d'assemblage de machines de photolithographie doit disposer d'une variété de travailleurs techniques qualifiés et de divers droits de propriété intellectuelle d'assemblage, afin de pouvoir comprendre clairement comment assembler divers composants de précision, puis utiliser rapidement leurs opérations qualifiées et leurs connaissances du système pour et avec précision. fabriquer une machine de photolithographie.

La Chine a fait de grands progrès dans la technologie des machines de photolithographie après près de deux décennies d'avancées technologiques clés.

En ce qui concerne le double établi de la machine de lithographie, le double établi développé conjointement par China Huazhuo Jingke et l'équipe de l'Université Tsinghua a brisé le monopole technologique d'ASML. Quant à l'équipement de source de lumière synchrone et à la technologie de lentille optique de la machine de lithographie, c'est également le cas. développé par l'Institut de technologie de Harbin et d'autres universités, il a connu un développement rapide grâce à des recherches dédiées menées par des instituts de recherche scientifiques réputés à travers le pays.

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