ASML kündigt die Einführung von Lithographiemaschinen mit hoher NA an, die für die Herstellung von 2-nm-Chips geeignet sind. Intel hat 6 Einheiten gekauft

Laut Nachrichten vom 19. Dezember berichtete SamMobile, dass ASML in den nächsten Monaten Geräte zur Chipherstellung für den 2-nm-Prozessknoten auf den Markt bringen wird, wodurch die Leistung der optischen numerischen Apertur (NA) von 0,33 auf 0,55 erhöht wird. Samsung will Ende 2025 mit der Produktion von 2-nm-Chips beginnen

Berichten zufolge soll der niederländische Halbleiterausrüster ASML im nächsten Jahr nur eine Produktionskapazität von 10 Einheiten haben. Allerdings hat Intel bereits 6 davon vorbestellt. Dennoch plant ASML, die Produktionskapazität dieser Ausrüstung in den nächsten Jahren auf 20 Einheiten pro Jahr zu erhöhen NXE: 3400C. Beide Lithografiemaschinen sind mit einer reflektierenden Projektionsoptik mit 0,33 NA und einer 13,5-nm-EUV-Lichtquelle ausgestattet, die für die Herstellung von 3/5-nm- bzw. 5/7-nm-Chips geeignet sind ASML-Sprecher: EXE:5200 ist das High-NA-System der nächsten Generation von ASML, das über eine höhere Lithographieauflösung verfügt, den Chip auf ein Verhältnis von 1,7 verkleinern und die Dichte auf das 2,9-fache erhöhen kann Roadmap

Früheren Berichten zufolge plant ASML, nach 2025 mit der Massenproduktion der ersten 0,55 NA EUV-Lithographiemaschine zu beginnen und die erste Charge an Intel zu liefern.

Laut einem Intel-Sprecher wird das Unternehmen der erste Käufer von ASMLs EXE werden: 5200. Im Vergleich zu EXE:5000 wird EXE:5200 voraussichtlich einige Verbesserungen mit sich bringen, wie z. B. eine höhere Produktivität usw.

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