Der Wettbewerb um Knotenausrüstung unter 2 nm beginnt, TSMC Wei Zhejia besucht heimlich die ASML-Zentrale

Neuigkeiten von dieser Website am 28. Mai. Laut koreanischen Medien Business Korea hat TSMC-CEO Wei Zhejia das von ihm am 23. Mai abgehaltene „TSMC 2024 Technical Seminar“ beiseite gelegt reiste in die Niederlande, um die ASML-Zentrale in Eindhoven zu besuchen, und besuchte TRUMPF, ein auf Industrielaser spezialisiertes Unternehmen in Ditzingen, Deutschland.

ASML-CEO Christophe Fouquet und TRUMPF-CEO Nicola Leibinger-Kammüller gaben über soziale Medien den Ort des geheimen Besuchs von Präsident Wei bekannt.

CEO Fuke sagte: „Wir stellten Herrn Wei unsere neuesten Technologien und neuen Produkte vor, einschließlich der Frage, wie EUV-Geräte mit hohem numerischen Aperturverhältnis (High NA) die zukünftige Halbleitermikroskopietechnologie ermöglichen werden ".

Am 14. Mai wurde berichtet, dass Dr. Xiaoqiang Zhang von TSMC auf einem technischen Seminar am 14. Mai in Amsterdam sagte: „Das High-NA EUV von ASML gefällt mir sehr gut, aber.“ Ich liebe den Preis nicht.“

TSMC erwägt die Einführung von EUV-Geräten mit hoher NA in Prozesse nach dem 1,6-nm-Produkt A16, das in der zweiten Hälfte des Jahres 2026 in Massenproduktion hergestellt werden soll, und soll bis dahin bestehende EUV-Geräte mit niedriger NA verwenden.

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