8月5日消息，璞璘科技PRINANO近日宣布，已于8月1日成功向国内某特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻（NIL）系统——PL-SR。在PL-SR系列设备的研发过程中，璞璘科技突破了喷墨涂胶工艺中的多项关键技术难题，实现了纳米级别的压印膜厚控制，达到平均残余层厚度＜10nm、残余层波动＜2nm、压印结构深宽比＞7:1的性能指标，支持线宽小于10nm的NIL工艺应用。据公司介绍，PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备目前已完成在存储芯片、硅基（oS

据益普索（Ipsos）统计，全球用户每日平均使用手机的时间持续攀升，2024年已达到4小时/天，这一趋势直接推动了近视人口比例不断上升。预计到2025年，全球超过一半的人口将患有近视。在此背景下，护眼需求日益凸显，已成为消费者与显示产业链共同关注的核心议题。正值6月6日全国爱眼日，天马微电子（以下简称“天马”）携手包括PConline在内的60多位媒体代表与KOL，走进其位于武汉的G6产业基地，开展主题为“让视界更好看”的探厂活动。此次活动不仅让大家深入参观了全球领先的柔性OLED生产线——TM

6月27日消息，ASML技术高级副总裁JosBenschop在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向5nm分辨率的HyperNA光刻机研发工作。目前使用的TWINSCANEXE:5000光刻系统搭载HighNA（0.55NA）光学系统，分辨率为8nm。更高的分辨率将有助于先进制程厂商减少曝光步骤，并提升光刻图案的精度。JosBenschop表示，ASML尚未为HyperNA光刻设备设定明确的发布时间，但该项目的目标是进一步

近期，波长光电在接待机构调研时透露，2024年度，公司境外业务的营业收入达到了12,750.37万元，占整体营收比例为30.66%。值得注意的是，这一部分收入的80%以上是由其全资子公司新加坡波长贡献的，客户分布于亚洲、欧洲、美洲、中东以及拉丁美洲等多个国家和地区。其中，对美贸易的收入占比不到5%，对公司整体业绩的影响有限。公司表示，会紧密关注国际经贸动态及关税政策调整，主动制定相应策略以减轻外部环境变化带来的冲击。同时，公司将借助灵活的全球布局和本地化的服务体系来适应国际贸易形势的变化。在半导

5月21日，盛美上海发布公告称，5月20日公司审议通过了了《关于调整公司2024年度向特定对象发行A股股票方案的议案》。募集资金总额由450,000万元变更为448,200万元，“研发和工艺测试平台建设项目”拟使用募集资金投入的金额由94,034.85万元变更为92,234.85万元。除此之外，公司本次发行方案的内容不存在其他变化。此前盛美上海计划募资定增45亿元用于研发和工艺测试平台建设项目、高端半导体设备迭代研发项目建设以及补充流动资金。其中，研发和工艺测试平台建设项目是本次调降投资金额的项

近日，博众精工在接受机构调研时，就“关税的影响”等问题回应称，由于公司出口美国的业务占比不大，因此目前加增关税对公司的影响较小。据悉，博众精工早在2011年成立的子公司——苏州博众智能机器人有限公司，就开始探索智能服务机器人的未来，并在机器人视觉系统、调度系统、智能移动底盘等方面积累了相应的技术。目前，博众精工在智能机器人领域有两个主要的布局方向：一是机器人代工，公司为国内顶尖机器人公司提供代工服务，订单充足，去年的订单已全部交付；二是人形机器人组装设备，公司为国际知名机器人公司独家提供用于机器

4月17日，A股三大指数表现各异，沪指连续八个交易日上涨。截至收盘，沪指上涨0.13%，收报3280.34点；深证成指下跌0.16%，收报9759.05点；创业板指微涨0.09%，收报1908.78点。沪深两市成交额为9995亿元，较前一日减少1124亿元。半导体板块整体表现平稳。集微网从电子元件、材料、设备、设计、制造、IDM、封测、分销等多个领域中选取了117家半导体公司进行分析。其中，50家公司市值上涨，芯朋微、思瑞浦、中颖电子等公司表现突出；61家公司市值下跌，振华科技、宏达电子、鸿远电

荷兰菲尔德霍芬，2025年4月16日——阿斯麦（ASML）于今日公布了2025年第一季度的财务报告。报告显示，ASML在2025年第一季度实现了77亿欧元的净销售额，毛利率达到了54%，净利润为24亿欧元。第一季度的新增订单总额为39亿欧元，其中EUV光刻机订单占12亿欧元。ASML预计2025年第二季度的净销售额将在72亿至77亿欧元之间，毛利率预计在50%至53%之间；对于2025年的整体预期保持不变，预计全年净销售额将在300亿至350亿欧元之间，毛利率在51%至53%之间。(1)累计装机

三星抢先布局1nm芯片工艺，力争超越台积电！据报道，三星电子已启动1nm（纳米）晶圆代工工艺研发，目标于2029年后实现量产。此举旨在弥补目前在2nm工艺等方面与台积电的差距，力图实现技术反超。业内消息显示，三星电子半导体研究所已组建专门团队，负责1nm工艺的开发工作，成员多来自参与2nm工艺研发的精英工程师。目前三星公开的路线图显示，1.4nm工艺计划于2027年量产，而1nm工艺则需要突破现有技术瓶颈，并依赖于高数值孔径极紫外光（High-NAEUV）光刻机等先进设备。在3nm和即将量产的2

宁波冠石半导体光掩模版制造项目正式投产！宁波前湾新区近日发布消息，宁波冠石半导体光掩模版制造项目于3月19日举行新品发布暨通线仪式，标志着该项目正式投产。（来源：宁波前湾新区发布）宁波冠石半导体专注于半导体光掩模版制造。该项目自2023年5月签约，同年10月开工，仅用不到两年时间便完成建设并投产，固定资产投资超过10亿元，亩均有效投资强度超过1500万元。2024年7月，宁波冠石半导体引进首台电子束掩模版光刻机，这是其40纳米技术节点量产和28纳米技术节点研发的关键设备。光掩模版是微电子制造中光

英特尔18A工艺技术：量产之路挑战重重，但High-NAEUV光刻机带来曙光在2025年国际固态电路会议(ISSCC)上，英特尔正式发布了备受瞩目的Intel18A工艺技术，并宣称该技术已准备好满足客户需求，预计2025年上半年开始流片。然而，最新消息显示，Intel18A工艺的量产之路面临严峻挑战。据悉，正在进行测试的PantherLake工程样品良品率仅为20%到30%，远低于大规模生产的要求。这使得英特尔原计划于2025年下半年实现量产的目标面临巨大压力。除了PantherLak

英特尔在2025年国际固态电路会议（ISSCC2025）上发布了备受瞩目的Intel18A工艺技术，并重点介绍了其SRAM密度的大幅提升。英特尔官网也同步更新了相关信息，宣布Intel18A工艺已准备好支持客户项目，并计划于2025年上半年开始流片。据报道，首批采用Intel18A工艺的PantherLake工程样品目前正在主要的PC原始设备制造商（ODM）/电子制造服务商（EMS）进行测试。然而，初步调查显示，Intel18A工艺的良率仅为20%到30%，仍有很大的提升空间，目前大规模量

尼康剑指半导体光刻市场龙头，计划于2028财年（2028年4月-2029年3月）推出全新ArF浸润式光刻系统。此举旨在挑战ASML的市场主导地位，并与ASML设备实现兼容。尼康在2025年2月的财报中披露，正与多家主要半导体厂商合作研发该系统，预计2028年交付原型机，后续机型将于2030年后推出。这款新系统将采用紧凑型平台设计、突破性的投影镜头技术和先进的晶圆平台，显著提升操作效率，并降低维护需求。虽然具体合作厂商尚未公布，但尼康强调系统的高速性能。值得关注的是，新系统与现有ASMLArF浸润

宁波伏尔肯科技股份有限公司（以下简称“伏尔肯”）近日宣布获得毅达资本数千万元投资。此轮融资将主要用于新产品研发和市场拓展。伏尔肯，一家成立于1998年的国家级专精特新“小巨人”企业及“制造业单项冠军企业”，长期致力于高性能碳化硅陶瓷材料及制品的研发与生产。公司为流体控制、航天军工、半导体和光伏等行业提供高纯度、大尺寸、结构复杂的精密碳化硅陶瓷产品。凭借近30年的行业深耕，伏尔肯积累了丰富的材料配方体系，并能根据客户需求和工艺条件灵活调控材料性能。伏尔肯自主研发的碳化硅3D打印技术，突破了传统工艺

本站12月19日消息，日本先进逻辑半导体制造商Rapidus宣布，其购入的首台ASMLTWINSCANNXE:3800E光刻机已于当地时间昨日在其北海道千岁市IIM-1晶圆厂完成交付并启动安装。这也是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。Rapidus首席执行官、日本政府代表、北海道及千岁市地方政府代表、ASML高管、荷兰驻日本大使等相关人士出席了在北海道新千岁机场举行的纪念仪式。NXE:3800E是ASMLEXE系列0.33(Low)NAEUV光刻机的最新型号，能满足Rapidus首代量产工艺

单片机制造过程涉及以下步骤：1. 设计和布局：设计架构和布局。2. 光刻和蚀刻：将电路图案转印并蚀刻到硅晶圆上。3. 沉积和掺杂：形成元件并改变硅电导率。4. 互连和封装：将组件互连并封装芯片。5. 测试和编程：测试功能并根据应用编程。6. 组装和应用：将其用于电子设备中，如微控制器、传感器和通信模块。