根據12月19日的消息，SamMobile報告稱，ASML將在未來幾個月內推出用於2nm製程節點的晶片製造設備，該設備將光學數值孔徑（NA）性能從0.33提高到0.55。三星計劃於2025年底開始生產2nm晶片
據報道，據稱荷蘭半導體設備製造商ASML計劃明年產能只有10台。然而，英特爾已經預訂了其中的6台。儘管如此，ASML計劃在未來幾年將該設備的產能提高到每年20台
#目前，ASML官網上列出的EUV光刻機有兩款，分別是NXE:3600D和NXE:3400C。這兩款光刻機都配備了0.33 NA的反射式投影光學元件和13.5nm的EUV光源，分別適用於3/5nm和5/7nm晶片的製造
根據ASML發言人透露，EXE:5200是ASML的下一代高NA系統，具備更高的光刻分辨率，能夠將晶片縮小到1.7的比例，並且增加密度至2.9倍
根據先前的報道，ASML計劃在2025年後開始量產第一台0.55 NA EUV光刻機，並將首批交付給英特爾
據英特爾發言人透露，該公司將成為ASML首台EXE:5200的購買者。相較於EXE:5000，EXE:5200預計將帶來一些改進，如更高的生產率等
根據Gartner 分析師Alan Priestley 的預測，0.55 NA EUV 光刻機的價格將翻番，達到3 億美元（約21.42 億元）
以上是ASML 宣布推出適用於製造2奈米晶片的高 NA光刻機，英特爾已購買6台的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章！
