根據日經新聞的報道，尼康決定轉變其半導體光刻機業務的戰略，以期提升業績
據三菱UFJ 摩根士丹利證券數據，業內最大企業荷蘭ASML 掌握了全球光刻機市場 62% 的份額，佳能排名第二佔31%，尼康排名第三佔7%。
報道稱，時隔二十多年，尼康將於 2024 年投放光刻機新產品，透過尋求逆勢開拓中國大陸市場，以實現捲土重來。
尼康預計2023 財年（截至2024 年3 月）的合併淨利將年減22%，降至350 億日圓（本站備註：目前約16.87 億元）。半導體設備相關的精機業務、相機影像業務是兩大支柱，但與高階微單相機銷售強勁形成對比的是，精機業務銷售一直低迷。
報告還稱，尼康和佳能曾在 1990 年代之前主導市場，但在最尖端的極紫外線（EUV）設備的開發競爭中敗給了 ASML。極紫外光刻機在 2010 年後半期實用化，全世界只有 ASML 能夠生產。另一方面，尼康的經營資源分散在各種光源上，缺乏強勢領域。
為了打開局面，尼康將於 2024 年夏季 24 年推出採用成熟技術的光刻機新產品。使用了 1990 年代初期實用化、被稱為「i 線」的老一代光源技術，著眼於適合製造需要耐久性的功率半導體等的特性。有分析認為，尼康將使用通用的電子零件等，價格能比佳能便宜 2～3 成左右。
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