加速英特爾4製程的量產：英特爾製程製程加速

英特爾在今天舉辦的技術創新高峰會上發布了最新的工藝工藝進展，為半導體行業帶來了令人振奮的消息

根據英特爾的公告，他們正在全力加速英特爾4工藝的量產，首批採用此工藝的處理器將是全新的Meteor Lake。英特爾4製程採用極紫外光刻技術，將大幅提升製程的良率和麵積微縮，為處理器的高能效性能奠定了堅實基礎。同時，正在研發中的英特爾3製程將帶來更高密度的設計庫，提升電晶體的驅動電流，並有效降低通孔電阻，更廣泛地採用了EUV光刻技術

據小編了解，Intel 20A 工藝標誌著英特爾步入埃米時代，該工藝將引入創新的RibbonFET 和PowerVia 技術，預計將在 2024 年上半年達到製造準備就緒狀態。此外，Intel 18A 工藝將在 2024 年下半年準備就緒，它基於 Intel 20A 工藝，有望提高每瓦性能 10%，使英特爾在製程節點領域保持領先地位。

這一系列製程的發布，顯示了英特爾在半導體製造領域不斷取得的進步，將有助於公司在未來幾年內在市場上保持競爭力，並滿足不斷增長的技術需求。英特爾的技術創新高峰會為產業帶來了令人振奮的展望，也為全球科技發展注入了新的動力。

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