非光刻方案，佳能开始销售 5nm 芯片生产设备

本站 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。

佳能表示，这套生产设备的工作原理与行业领导者ASML不同。它更类似于印刷，而不是光刻。它没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上

这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。

佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产 2nm 芯片。

本站注：纳米印刷（Nanoprinted lithography）通常被认为是光学光刻的低成本替代品，SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试，不过潜在客户提出投诉，认为产品缺陷率较高，最后选择放弃。

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