포토레지스트의 역할

포토레지스트는 회로 설계 패턴을 웨이퍼에 전사하는 데 사용되는 반도체 제조의 핵심 소재입니다. 그 기능은 수광부를 현상액에 녹지 않게 만들어 패턴 전사를 달성하는 것입니다. 포토레지스트는 감광성에 따라 양극(회로선을 만드는 데 사용)과 음극(회로 공간을 만드는 데 사용)으로 구분됩니다. 이는 집적 회로, 마이크로 전자 장치, 인쇄 회로 기판 및 광학 기기 제조 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다.

포토레지스트의 역할

포토레지스트는 반도체 제조공정에서 집적회로를 만드는 데 사용되는 핵심 소재다. 그 기능은 회로 설계 패턴을 웨이퍼에 전송하는 것입니다.

포토레지스트의 원리

포토레지스트는 자외선이나 전자빔에 민감한 유기 고분자입니다. 빛이 포토레지스트에 닿으면 폴리머가 가교되어 현상액에 용해되지 않게 됩니다. 조사되지 않은 부분은 가용성으로 남아 있습니다.

포토레지스트 제조 공정

포토레지스트 제조 공정은 다음 단계로 구성됩니다.

• 합성 고분자
• 감광제 첨가
• 폴리머를 용매에 용해
• 필터링 및 탈기
• 웨이퍼에 코팅

포토레지스트의 종류

포토레지스트는 빛에 대한 민감도에 따라 포지티브 포토레지스트와 네거티브 포토레지스트로 나눌 수 있습니다.

• 포지티브 라이트 레지스트: 조사 후 형성된 폴리머는 현상액에 불용성이 되어 현상액에 용해되지 않습니다. 회로선을 만드는 데 사용됩니다.
• 네거티브 포토레지스트: 조사 후 형성된 폴리머는 현상액에 용해되어 회로 공간을 만드는 데 사용됩니다.

포토레지스트의 응용

집적 회로 제조
• 마이크로 전자 장치 제조
• 인쇄 회로 기판 제조
• 광학 기기 제조

위 내용은 포토레지스트의 역할의 상세 내용입니다. 자세한 내용은 PHP 중국어 웹사이트의 기타 관련 기사를 참조하세요!