La technologie innovante de tampon de polissage CMP pour semi-conducteurs de SK hynix permet une utilisation durable

Nouvelles de ce site le 27 décembre, selon le média coréen ETNews, SK Hynix a récemment développé unetechnologie de tampon de polissage CMP réutilisable, qui peut non seulement réduire les coûts, mais également améliorer la gestion ESG (environnementale, sociale, de gouvernance).

SK Hynix a déclaré qu'ils déploieraient d'abord des tampons de polissage CMP réutilisables dans des processus à faible risque et élargiraient progressivement leur champ d'application

Note de ce site : la technologie CMP est l'action conjointe des produits chimiques et mécaniques sur les matériaux polis dans le cadre de ce processus, la surface du matériau atteint la planéité requise. Les composants chimiques du fluide de polissage réagissent chimiquement avec la surface du matériau pour former une couche ramollie facile à polir. Le tampon de polissage et les particules abrasives présentes dans le fluide de polissage polissent physiquement et mécaniquement la surface du matériau pour éliminer la couche ramollie.

Dans le processus CMP, les principales fonctions du tampon de polissage sont :

• Afin d'obtenir une distribution uniforme du fluide de polissage dans toute la zone de traitement et de fournir un nouveau polissage supplémentaire fluide Pour effectuer le cycle, les opérations suivantes doivent être effectuées :

• Éliminer les résidus sur la surface de la pièce produits à cause du processus de polissage, tels que les copeaux de polissage, les copeaux, etc. charge lors du transfert de matière

• Il est très important de maintenir l'environnement mécanique et chimique nécessaire au processus de polissage. Outre les propriétés mécaniques du tampon de polissage, les caractéristiques structurelles de la surface ont également un impact sur l'efficacité du polissage et la planéité. Par exemple, la forme des micropores, la porosité et la forme des rainures affecteront le débit et la distribution du fluide de polissage

• SK Hynix utilise la méthode de reconstruction de la texture du cadran du tampon de polissage CMP pour garantir que le tampon de polissage peut être réutilisé

Corée Environ 70 % des tampons de polissage CMP utilisent des produits étrangers et sont fortement dépendants des pays étrangers. Cependant, en perçant cette technologie, le développement indépendant de l'industrie coréenne des semi-conducteurs peut être favorisé

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