Die Rolle von Fotolack

Fotolack wird zur Übertragung von Schaltungsentwurfsmustern auf Wafer verwendet und ist ein Schlüsselmaterial in der Halbleiterherstellung. Seine Funktion besteht darin, den lichtempfangenden Teil im Entwickler unlöslich zu machen und so eine Musterübertragung zu erreichen. Entsprechend der Lichtempfindlichkeit werden Fotolacke in positive (zur Herstellung von Schaltkreisleitungen) und negative (zur Herstellung von Schaltkreisräumen) verwendete Fotolacke unterteilt. Es wird häufig in integrierten Schaltkreisen, mikroelektronischen Geräten, Leiterplatten und der Herstellung optischer Instrumente sowie in anderen Bereichen eingesetzt.

Die Rolle von Fotolack

Fotolack ist ein Schlüsselmaterial für die Herstellung integrierter Schaltkreise im Halbleiterfertigungsprozess. Seine Funktion besteht darin, das Schaltungsentwurfsmuster auf den Wafer zu übertragen.

Prinzip des Fotolacks

Fotolack ist ein organisches Polymer, das gegenüber ultraviolettem Licht oder Elektronenstrahlen empfindlich ist. Wenn Licht auf den Fotolack trifft, wird das Polymer vernetzt und im Entwickler unlöslich. Der unbestrahlte Anteil bleibt löslich.

Der Herstellungsprozess von Fotolack

Der Herstellungsprozess von Fotolack umfasst die folgenden Schritte:

• Synthetisches Polymer
• Fotosensibilisator hinzufügen
• Auflösen des Polymers im Lösungsmittel
• Filtration und Entgasung
• Auf den Wafer aufgetragen

Arten von Fotoresists

Je nach Lichtempfindlichkeit des Fotoresists kann er in positives Fotoresist und negatives Fotoresist unterteilt werden:

• Positiver Lichtresist: Das nach der Bestrahlung gebildete Polymer wird im Entwickler unlöslich und ist zur Herstellung von Stromleitungen verwendet.
• Negativer Fotolack: Das nach der Bestrahlung gebildete Polymer wird im Entwickler löslich und wird zur Schaffung von Schaltkreisraum verwendet.

Anwendungen von Fotolack

Herstellung integrierter Schaltkreise
• Herstellung mikroelektronischer Geräte
• Herstellung von Leiterplatten
• Herstellung optischer Instrumente

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