Canon beginnt mit dem Verkauf von 5-nm-Chip-Produktionsanlagen ohne Lithografielösung

Laut Nachrichten dieser Website vom 14. Oktober hat Canon kürzlich eine Pressemitteilung herausgegeben, in der es darum geht, mit dem Verkauf der Chip-Produktionsausrüstung FPA-1200NZ2C zu beginnen. Darin heißt es, dass das Unternehmen 5-nm-Chips mit einer anderen Lösung als der komplexen Fotolithografie-Technologie herstellen kann.

Canon sagt, dass diese Produktionsausrüstung anders funktioniert als der Branchenführer ASML. Es ähnelt eher dem Drucken als der Fotolithografie. Es nutzt nicht das Prinzip der Bildprojektion, um die Mikrostruktur des integrierten Schaltkreises auf den Siliziumwafer zu übertragen

Dieser Gerätesatz kann auf Siliziumwafer mit einer Größe von nur 14 Quadratmillimetern angewendet werden,so dass dies möglich ist produzieren das Äquivalent eines 5-nm-Prozesschips.

Canon sagte, dass es dieses System weiter verbessern und weiterentwickeln wird: Es wird erwartet, dass es in Zukunft zur Herstellung von 2-nm-Chips verwendet wird.

Hinweis von dieser Website: Nanogedruckte Lithographie gilt allgemein als kostengünstige Alternative zur optischen Lithographie, und Hersteller von Speicherchips wie SK Hynix und Kioxia haben in der Vergangenheit versucht, sie zu nutzen. Kioxia hatte zuvor Tests durchgeführt, potenzielle Kunden beschwerten sich jedoch über eine hohe Fehlerquote des Produkts und gaben schließlich auf.

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